TeknolojiSubstrate: ABD’nin ASML Bağımlılığını Sona Erdirecek Yeni Teknoloji
Son yıllarda, ABD çip endüstrisi büyük bir dönüşüm sürecinden geçiyor. Bu dönüşümün merkezinde yer alan Substrate, litografi alanında devrim niteliğinde bir yaklaşım geliştirmeyi hedefliyor. ASML’nin sektördeki baskın konumuna karşı koymayı amaçlayan Substrate, X-ışınlarını EUV (Extreme Ultraviolet) teknolojisi yerine kullanmayı planlıyor. Bu yeni yaklaşım, çip litografi ekipmanlarının daha uygun maliyetli bir alternatifini sunma vaadi taşıyor. Bu…
Semih Ateşçi · · 4 dakikalık okuma