GüncelTSMC, Yüksek Maliyetli EUV Makineleri Yerine Photomask Pellicles Kullanacak
Tayvan merkezli yarı iletken devi TSMC, 1.4nm ve 1nm gibi alt 2nm düğümlerine geçiş yaparken, üretim sürecinde bazı zorluklarla karşılaşmayı bekliyor. Ancak, bu zorlukların üstesinden gelmek için yüksek maliyetli EUV makineleri almak yerine, daha uygun maliyetli photomask pellicles kullanmayı planlıyor. Bu karar, TSMC’nin üretim süreçlerini daha verimli hale getirmek ve maliyetlerini kontrol altında tutmak adına…
Semih Ateşçi · · 2 dakikalık okuma